光刻胶剥离液


适用于前道/后道/先进封装(如 RDL 等)等制程。。。剥离光刻胶效果好(包括厚膜光刻胶),,,,对其它膜层无腐蚀,,安全环保。。。。

光刻胶剥离液
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仁智微介绍

仁智微电子是为上海仁智科技股份有限公司旗下成员企业,, 是 一家专注于电子化学品材料研发、、、、 生产、、销售及技术服务的科技型企业。。目前,,,, 仁智微在上海化学工业区规划年产 4 万吨电子材料研发及制 造基地,,,,其中一期年产 1.8 万吨剥离液项目已投产; 在合肥投 资 3 亿元建设电子材料基地,,预计于 2024 年三季度正式投产。。。

 

研发

1、、、研发中心位于上海,,长濑技术合作+仁智自主研发

2、、、、团队拥有多名业内资深专业人士

3、、截至23年12月,,,,申请专利18项,,,,其中授权11项,,审查中7项

产品

1、、半导体显示:光刻胶剥离液(水系/有机系)、、蚀刻液 (Cu/Al/Ag)等

2、、集成电路:光刻胶剥离液、、、清洗液(PEER/PCMP)、、蚀刻液 (金属/非金属膜层)

交付

1、、、、自建工厂:上海仁智微2021年8月成立,,,,22年11月投产剥离液年产能1.8万吨

                        合肥仁智微2022年9月成立,,,,建设中,,预计24年Q3投产

2、、、合作工厂:西南/西北合作交付基地

 

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