清洗液


刻蚀后清洗液适用于 Al/Cu 金属线、、、通孔、、、金属焊及硬掩模等制程,,蚀刻残留物去除能力强、、、、低缺陷。。。。
抛光后清洗液适用于不同抛光工艺后的清洗,,,,去除抛光颗粒及残留,,,,防止表面腐蚀,,,降低缺陷。。。。
高纯IPA,,用于马兰戈尼方式的清洗与干燥。。。

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仁智微介绍

仁智微电子是为上海仁智科技股份有限公司旗下成员企业,,, 是 一家专注于电子化学品材料研发、、、 生产、、销售及技术服务的科技型企业。。。。目前,,, 仁智微在上海化学工业区规划年产 4 万吨电子材料研发及制 造基地,,其中一期年产 1.8 万吨剥离液项目已投产; 在合肥投 资 3 亿元建设电子材料基地,,,,预计于 2024 年三季度正式投产。。

 

研发

1、、、研发中心位于上海,,,长濑技术合作+仁智自主研发

2、、、、团队拥有多名业内资深专业人士

3、、、截至23年12月,,,,申请专利18项,,其中授权11项,,,审查中7项

产品

1、、半导体显示:光刻胶剥离液(水系/有机系)、、、、蚀刻液 (Cu/Al/Ag)等

2、、集成电路:光刻胶剥离液、、清洗液(PEER/PCMP)、、、、蚀刻液 (金属/非金属膜层)

交付

1、、、、自建工厂:上海仁智微2021年8月成立,,,,22年11月投产剥离液年产能1.8万吨

                        合肥仁智微2022年9月成立,,,,建设中,,,预计24年Q3投产

2、、、合作工厂:西南/西北合作交付基地

 

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